İnce Film Biriktirme için ALD Sistemi

n. 1 atomik ölçekli ince film biriktirme için ALD sistemi BENEQ TFS500, boyutlar 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, sıcaklık aralığı 25-500 °C (ileri araştırma ve mikroelektronik, fotonik, sensör teknolojileri, fonksiyonel kaplamalar ve nanoteknoloji sektörlerinde endüstriyel üretim için tasarlanmış makine; karmaşık ve üç boyutlu yüzeylerde dahi kontrollü, uniform ve konformal nanometrik biriktirmelere olanak sağlar).

Marka: Beneq

model: TFS500