ALD rendszer vékonyréteg-leválasztáshoz

1 db ALD rendszer atomi léptékű vékonyréteg-leválasztáshoz, BENEQ TFS500, méretek: 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, hőmérséklet-tartomány: 25-500 °C (a berendezés fejlett kutatásra és ipari termelésre készült a mikroelektronika, fotonika, szenzortechnika, funkcionális bevonatok és nanotechnológiák területén; lehetővé teszi a szabályozott, egyenletes és konform nanométeres leválasztást, akár összetett és háromdimenziós felületeken is).

Márka: Beneq

modell: TFS500