System ALD do osadzania cienkich warstw

nr 1 system ALD do osadzania cienkich warstw w skali atomowej BENEQ TFS500, wymiary 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, zakres temperatur 25-500 °C (urządzenie przeznaczone do badań zaawansowanych oraz produkcji przemysłowej w sektorach mikroelektroniki, fotoniki, czujnikowej, powłok funkcjonalnych i nanotechnologii; umożliwia kontrolowane, jednorodne i konformalne osadzanie nanometryczne, także na powierzchniach złożonych i trójwymiarowych).

Marka: Beneq

model: TFS500