Sistema ALD per a la deposició de films prims

n. 1 sistema ALD per a la deposició de films prims a escala atòmica BENEQ TFS500, dimensions 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, rang de temperatura 25-500 °C (màquina destinada a la recerca avançada i a la producció industrial en els sectors de la microelectrònica, fotònica, sensorística, recobriments funcionals i nanotecnologies; permet deposicions nanomètriques controlades, uniformes i conformes, fins i tot sobre superfícies complexes i tridimensionals).

Marca: Beneq

model: TFS500