ALD-systeem voor dunnefilmafzetting

nr. 1 ALD-systeem voor atomaire-schaal dunnefilmafzetting BENEQ TFS500, afmetingen 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, temperatuurbereik 25-500 °C (machine bestemd voor geavanceerd onderzoek en industriële productie in de sectoren micro-elektronica, fotonica, sensortechniek, functionele coatings en nanotechnologie; maakt gecontroleerde, uniforme en conforme nanometrische afzettingen mogelijk, ook op complexe en driedimensionale oppervlakken).

Merk: Beneq

model: TFS500