ALD systém pro depozici tenkých vrstev

č. 1 ALD systém pro depozici tenkých vrstev v atomovém měřítku BENEQ TFS500, rozměry 1 800 mm x 900 mm x 2 033 mm, teplotní rozsah 25-500 °C (zařízení určené pro pokročilý výzkum a průmyslovou výrobu v oborech mikroelektroniky, fotoniky, senzoriky, funkčních povlaků a nanotechnologií; umožňuje řízené nanometrové depozice, rovnoměrné a konformní, i na složitých a trojrozměrných površích).

Značka: Beneq

model: TFS500