Système ALD pour le dépôt de couches minces

n. 1 système ALD pour le dépôt de couches minces à l’échelle atomique BENEQ TFS500, dimensions 1 800 mm x 900 mm x 2 033 mm, plage de température 25-500 °C (machine destinée à la recherche avancée et à la production industrielle dans les secteurs de la microélectronique, photonique, capteurs, revêtements fonctionnels et nanotechnologies ; elle permet des dépôts nanométriques contrôlés, uniformes et conformes, y compris sur des surfaces complexes et tridimensionnelles).

Marque: Beneq

modèle: TFS500