Sistema ALD para Deposición de Películas Delgadas

n.º 1 sistema ALD para la deposición de películas delgadas a escala atómica BENEQ TFS500, dimensiones 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, rango de temperatura 25-500 °C (máquina destinada a la investigación avanzada y a la producción industrial en los sectores de la microelectrónica, fotónica, sensórica, recubrimientos funcionales y nanotecnologías; permite deposiciones nanométricas controladas, uniformes y conformes, incluso sobre superficies complejas y tridimensionales).

Marca: Beneq

modelo: TFS500