ALD-järjestelmä ohutkalvojen pinnoitukseen

n. 1 ALD-järjestelmä atomitason ohutkalvojen pinnoitukseen BENEQ TFS500, mitat 1 800 mm x 900 mm x 2 033 mm, lämpötila-alue 25–500 °C (laite on tarkoitettu edistyneeseen tutkimukseen ja teolliseen tuotantoon mikroelektroniikan, fotoniikan, anturitekniikan, funktionaalisten pinnoitteiden ja nanoteknologioiden aloilla; mahdollistaa hallitut, tasaiset ja konformaaliset nanometriset pinnoitukset myös monimutkaisille ja kolmiulotteisille pinnoille).

Merkki: Beneq

malli: TFS500