Sistema ALD per Deposizione di Film Sottili

n. 1 sistema ALD per deposizione di film sottili su scala atomica BENEQ TFS500, dimensioni 1.800 mm x 900 mm x2.033 mm, range di temperatura 25-500 °C (macchina destinata alla ricerca avanzata ed alla produzione industriale nei settori della microelettronica, fotonica, sensoristica, coating funzionali e nanotecnologie; permette deposizioni nanometriche controllate, uniformi e conformi, anche su superfici complesse e tridimensionali).

Marca: Beneq

Modello: TFS500