ALD systém na depozíciu tenkých vrstiev

č. 1 ALD systém na depozíciu tenkých vrstiev v atómovej mierke BENEQ TFS500, rozmery 1 800 mm x 900 mm x 2 033 mm, teplotný rozsah 25-500 °C (zariadenie určené na pokročilý výskum a priemyselnú výrobu v oblastiach mikroelektroniky, fotoniky, senzoriky, funkčných povlakov a nanotechnológií; umožňuje riadené, rovnomerné a konformné nanometrické depozície aj na zložitých a trojrozmerných povrchoch).

Znamka: Beneq

model: TFS500