Sistema ALD para Deposição de Filmes Finos

n.º 1 sistema ALD para deposição de filmes finos à escala atómica BENEQ TFS500, dimensões 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, intervalo de temperatura 25-500 °C (máquina destinada à investigação avançada e à produção industrial nos setores da microeletrónica, fotónica, sensorística, revestimentos funcionais e nanotecnologias; permite deposições nanométricas controladas, uniformes e conformes, também em superfícies complexas e tridimensionais).

Marca: Beneq

modelo: TFS500