Система ALD для осаждения тонких пленок

№ 1 система ALD для атомно-слоевого осаждения тонких пленок BENEQ TFS500, габариты 1.800 мм x 900 мм x 2.033 мм, диапазон температур 25–500 °C (оборудование предназначено для передовых исследований и промышленного производства в областях микроэлектроники, фотоники, сенсорики, функциональных покрытий и нанотехнологий; обеспечивает контролируемые, равномерные и конформные нанометровые осаждения, в том числе на сложные и трехмерные поверхности).

Марка: Beneq

модель: TFS500