Sistema ALD par la deposizion de film sotìi

n. 1 sistema ALD par deposizion de film sotìi a scala atòmica BENEQ TFS500, dimensioni 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, range de temperatura 25-500 °C (machina destinada a la ricerca avanzada e a la produzion industriale nei setori de la microelettrònica, fotònica, sensoristica, coating funsionali e nanotecnologie; la permete deposizion nanomètrighe controllàe, uniformi e conformi, anca su superfìci complesse e tridimensionali).

Marca: Beneq

modèlo: TFS500